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会社情報

会社概要


会社名 ナプソン株式会社
設立年月日 1984年7月4日
資本金 50,000,000円
代表取締役社長 中村 真
事業内容 電子機械装置(半導体関連測定機器)の研究開発、製造販売、輸出 輸入
所在地 (本社)
〒136-0071 東京都江東区亀戸2-36-12 エスプリ亀戸7階
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TEL:03-3636-0286
FAX:03-3636-0976
千葉技術センター

(千葉技術センター)
〒267-0056 千葉市緑区大野台2-5-10
Google maps
TEL:043-205-5301
FAX:043-205-2331

取引銀行 みずほ銀行 亀戸支店
三菱UFJ銀行 錦糸町支社
三井住友銀行 錦糸町支店
千葉銀行 八幡支店
日本政策金融公庫

会社沿革

1984年7月 半導体関係の測定機器と関連製品の開発・製造・販売を目的に設立
1986年8月 シリコンウエハ抵抗率/シート抵抗マッピングシステム販売開始
1987年3月 フラットパネル(液晶など)シート抵抗測定システム開発製品化
1988年6月 韓国、台湾の商社と販売代理店契約を締結
1988年7月 技術センター(工場)を、東京(江東区)から千葉市に移転・稼働開始
1989年6月 シリコンウエハ全自動測定システム開発製品化
1993年3月 非接触(渦電流法)抵抗率・厚さ・P/N測定システム開発製品化
1993年10月 全自動フラットパネル・シート抵抗測定システム開発製品化
1995年5月 非接触全自動測定システム開発製品化
1998年6月 技術センターを千葉県市原市に新設・移転 (市原技術センター)
2002年4月 EU、中国、アメリカの商社と販売代理店契約を締結
2003年5月 技術センターを千葉市土気に増設 (千葉技術センター)
2004年4月 フラットパネル非接触抵抗・膜厚全自動測定システム開発製品化
2004年7月 Napson Korea Co., Ltd. を韓国ソウルに設立
2007年1月 大連理工大学(中国)と共同研究室を設立
2007年12月 太陽電池シリコンウエハ用抵抗率測定システム開発製品化
2008年5月 経済産業省 元気なモノづくり中小企業300社に選定
2010年12月 大連理工大学(中国)との共同研究契約を更新(~2012年12月まで)
2011年11月 東京都ベンチャー技術大賞 最終ノミネート
2014年1月 ウエハ平坦度測定器開発製品化
2016年7月 東京都 東京のキラリ200社に選定
2016年8月 米国SCI(Scientific Computing International)社と日本総代理店契約を締結
2018年7月 千葉技術センターにクリーンルーム新建屋完成

輸入先

JANDEL ENGINEERING LTD.(U.K.) 4探針プローブヘッド
Microsense(U.S.A.) 非接触ウエハ厚さ測定プローブヘッド
Scientific Computing International(U.S.A) 膜厚測定システム(非接触・光学式)