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会社情報

会社概要

会社名 ナプソン株式会社
設立年月日 1984年7月4日
資本金 50,000,000円
代表取締役 中村 真
事業内容 半導体関連測定機器の研究開発、製造販売
所在地
(本社)

〒136-0071 東京都江東区亀戸2-36-12 エスプリ亀戸7階【Google maps
TEL:03-3636-0286 / FAX:03-3636-0976

千葉技術センター

〒267-0056 千葉市緑区大野台2-5-10【Google maps
TEL:043-205-5301 / FAX:043-205-2331

取引銀行
  • みずほ銀行 亀戸支店
  • 三菱UFJ銀行 錦糸町支社
  • 三井住友銀行 錦糸町支店
  • 千葉銀行 八幡支店
  • 日本政策金融公庫

会社沿革

  • 1984年7月
    半導体関係の測定機器と関連製品の開発・製造・販売を目的に設立
  • 1986年8月
    シリコンウエハー抵抗率、シート抵抗マッピングシステム販売開始
  • 1987年3月
    フラットパネル(液晶など)シート抵抗測定システム開発製品化
  • 1988年6月
    韓国、台湾の商社と販売代理店契約を締結
  • 1988年7月
    技術センター(工場)を、東京(江東区)から千葉市に移転・稼働開始
  • 1989年6月
    シリコンウエハー全自動測定システム開発製品化
  • 1993年3月
    非接触(渦電流法)抵抗率・厚さ・P/N測定システム開発製品化
  • 1993年10月
    全自動フラットパネル・シート抵抗測定システム開発製品化
  • 1995年5月
    非接触全自動測定システム開発製品化
  • 1998年6月
    技術センターを千葉県市原市に新設・移転 (市原技術センター)
  • 2002年4月
    EU、中国、アメリカの商社と販売代理店契約を締結
  • 2003年5月
    技術センターを千葉市土気に増設 (千葉技術センター)
  • 2004年4月
    フラットパネル非接触抵抗・膜厚全自動測定システム開発製品化
  • 2004年7月
    Napson Korea Co., Ltd. を韓国ソウルに設立
  • 2007年1月
    大連理工大学(中国)と共同研究室を設立
  • 2007年12月
    太陽電池シリコンウエハー用抵抗率測定システム開発製品化
  • 2008年5月
    経済産業省 元気なモノづくり中小企業300社に選定
  • 2010年12月
    大連理工大学(中国)との共同研究契約を更新(~2012年12月まで)
  • 2011年11月
    東京都ベンチャー技術大賞 最終ノミネート
  • 2014年1月
    ウエハー平坦度測定器開発製品化
  • 2016年7月
    東京都 東京のキラリ200社に選定
  • 2016年8月
    米国SCI(Scientific Computing International)社と日本総代理店契約を締結
  • 2018年7月
    千葉技術センターにクリーンルーム新建屋完成

主要納入先(抜粋)

業種を問わず、多大な優良企業様への実績が多数ございます。(*敬称略、順不同)

旭硝子株式会社 キヤノン株式会社
大日本印刷株式会社 富士フイルム株式会社
株式会社日立製作所 本田技研工業株式会社
株式会社ジャパンディスプレイ 株式会社神戸製鋼所
京セラ株式会社 三菱電機株式会社
日亜化学工業株式会社 株式会社ニコン
新日鐡住金株式会社 パナソニック株式会社
ローム株式会社 シャープ株式会社
信越化学グループ(信越化学工業株式会社、信越半導体株式会社、信越ポリマー株式会社など) ソニー株式会社
株式会社SUMCO 株式会社トクヤマ
凸版印刷株式会社 株式会社東芝
東レ株式会社 AIST [(独)産業技術総合研究所]
JST [(独)科学技術振興機講] NIMS [(独)物質・材料研究機構]
京都大学 東北大学
東京大学 Apple Inc.
Applied Materials, Inc. BASF SE
E. I. du Pont de Nemours and Company Honeywell International Inc.
Infineon technologies AG Intel Corporation
OKMETIC OYJ ON Semiconductor
Robert Bosch GmbH Saint-Gobain SA
SunEdison Semiconductor, Ltd Topsil Semiconductor Materials A/S
Vishay Intertechnology, Inc. X-FAB Semiconductor Foundries AG
Fraunhofer-Gesellschaft IEMN [Institut d’Electronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie]
ISFH [Institut für Solarenergieforschung Hameln] LETI [Laboratoire d’électronique des technologies de l’information]
AU Optronics Corp. BOE Co,Ltd.
CSOT CORPORATION [China Star Optoelectronics Technology] Delta Electronics, Inc.
EPISTAR Corporation Foxconn Technology Group. (Innolux Corporation, Century Display)
Hangzhou Haina semiconductor Co.,Ltd. Motech Industries, Inc.
Neo Solar Power Corporation SF-PV(Shunfeng Photovoltaic International Limited)
Shanghai Sinyang Semiconductor Material Co., Ltd Suntech Power
Tianma Micro-electronics Co. TPK Holding Co., Ltd
Wafer Works Corporation Xi’an LONGI Silicon Materials Corp.
Harbin Institute of Technology DONGWOO FINE-CHEM
Hanwha Chemical Corporation Hyundai Heavy Industries
LG Group [LG Siltron Inc., LG Chem Ltd, LG Display Co., Ltd, LG Electronics Incorporated etc] Samsung Group [Samsung Electronics Co., Ltd, Samsung Display Co.,Ltd., Samsung SDI etc]
KIST(Korea Institute of Science & Technology) Seoul National Univ